半導体をつくるには数百から1千ほどの作業工程を重ねる。中でも、ウェハーと呼ばれる円い基板に強い光を当てて半導体の回路を焼き付ける「露光」は、最も重要な工程の一つとされる。露光のための装置は、日本企業も強みを持っていた。だが、最先端の露光装置「EUV」開発から日本企業は撤退。実用化できたのはオランダのASML社だけだった。なぜ、ASMLはEUVをつくれるのか。同社の技術部門トップのヨス・ベンスコップ氏に聞いた。
「私たちは世界中のサプライヤー（部品供給元）、顧客、アカデミック（学術組織）と非常に緊密な関係を築いている」
かつてはニコンとキヤノンが先行
ベンスコップ氏がASMLの…
